- Teknologi J-FIL(TM) MII Mempercepat Adopsi Industri Semikonduktor pada Pembuatan 450mm dalam 2 Tahun

AUSTIN, Texas, 18 Januari 2013 (ANTARA/PRNewswire) -- Molecular Imprints, Inc., pemimpin teknologi dalam litografi semikonduktor canggih, hari ini mengumumkan peluncuran platform litografi canggih pertama yang mampu membuat pola substrat wafer silikon 450mm. Imprio® 450, diterima oleh produsen semikonduktor terkemuka pada akhir tahun 2012 dan sekarang sedang digunakan untuk memenuhi permintaan pengembangan proses wafer 450mm sebagai bagian dari kontrak tahunan layanan wafer untuk memudahkan transisi industri semikonduktor guna menekan ongkos produksi wafer 450mm. Robert E. Bruck, wakil presiden korporat dan general manager Technology Manufacturing Engineering (TME) Intel Corporation memamerkan salah satu wafer 450mm pertama yang sepenuhnya berpola selama Simposium Strategi Industri SEMI (Industry Strategy Symposium atau ISS) di Half Moon Bay, California pada tanggal 14 Januari 2013.

(Foto: http://photos.prnewswire.com/prnh/20130117/CL44052-a )
(Foto: http://photos.prnewswire.com/prnh/20130117/CL44052-b )
(Logo: http://photos.prnewswire.com/prnh/20100504/MILOGO )

"Peralatan semikonduktor dan rantai pasokan produsen harus memiliki akses awal pada wafer 450mm yang sepenuhnya berpola dan berkualitas tinggi untuk mengembangkan dan mengoptimalkan produk dan proses dalam masa transisi ini", kata Mark Melliar-Smith, Presiden dan CEO Molecular Imprints. "Teknologi Jet and Flash(TM) Imprint Lithography (J-FIL(TM)) milik kami adalah satu-satunya solusi litografi yang tersedia saat ini yang dapat memenuhi permintaan persyaratan fitur yang baik dari industri transisi 450mm. Teknologi J-FIL(TM) telah menunjukkan pemolaan 24nm dengan kekasaran ujung garis yang luar biasa (

Pewarta:

Editor : Irawan


COPYRIGHT © ANTARA News Jawa Barat 2013